PCE-44 小型紫外臭氧清洗機，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質(zhì)量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段，特別適合清除一些有機化合物。紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光：185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌粞酰?54nm可以破壞化合物中的鍵

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更新時間：2025-02-17

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清洗系列

超聲波清洗機等離子清洗機臭氧清洗機

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PCE-44 小型紫外臭氧清洗機，可用于清洗各種單晶基片，以保證更好的成膜質(zhì)量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段，特別適合清除一些有機化合物。紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光：185nm和254nm.其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌粞酰?54nm可以破壞化合物中的鍵（特別是碳碳鍵）。所以這兩種波長的光組合可有效地清除有機化合物。

性能指標和基本配置
電源	220V 50/60HZ
紫外燈	● UV燈管 ● 功率：55W ● 發(fā)出光的波長：波長254nm+185nm ● 使用壽命：6000h小時 ● 照射區(qū)域：100 x 100 mm ● 光照強度：4.6 mw/cm2
腔體	● 抽拉盒尺寸: 140mm132mm20mm ● 標配高純石英片用于盛放樣品，避免污染
應用	● 去除分子級別的污染物 ● 紫外光固化粘合劑 ● 紫外光催化 ● 氧化PDMS ● 表面消毒 ● 刻蝕 ● 清洗MEMS 器件 ● 清洗各種基片，如Si, Ge, GaAs和各種氧化物單晶基片
環(huán)境要求	● 僅室內(nèi)使用; 海拔高度在5,562英尺以內(nèi) ● 溫度范圍41-104華氏度 ● 最大相對濕度80％，最高87華氏度，104華氏度線性降至50％相對濕度 ● 主電源波動不超過標稱電壓的10％ ● 污染等級2; 臭氧水平（環(huán)境）測量<45 ppb
外形尺寸	240mm200mm165mm
凈重	4kg
認證	所有電器元件（>24V）都通過UL/MET/CSA/CE認證，若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證。
保修期	一年保修，終身技術(shù)支持。特別提示： 1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。點擊查看售后服務承諾書。